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介紹全自動(dòng)氦質(zhì)譜檢漏儀的兩種試驗方法
  • 更新時(shí)間:2022-04-27      瀏覽次數:870
    •   氦質(zhì)譜檢漏法是利用氦質(zhì)譜檢漏儀的氦分壓力測量原理,實(shí)現被檢件的氦泄漏量測量。當被檢件密封面上存在漏孔時(shí),示漏氣體氦氣及其它成分的氣體均會(huì )從漏孔泄出,泄漏出來(lái)的氣體進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀后,由于氦質(zhì)譜檢漏儀的選擇性識別能力,僅給出氣體中的氦氣分壓力信號值。在獲得氦氣信號值的基礎上,通過(guò)標準漏孔比對的方法就可以獲得漏孔對氦泄漏量。
      介紹全自動(dòng)氦質(zhì)譜檢漏儀的兩種試驗方法:
        一、真空法氦質(zhì)譜檢漏
        采用真空法檢漏時(shí),需要利用輔助真空泵或檢漏儀對被檢產(chǎn)品內部密封室抽真空,采用氦罩或噴吹的方法在被檢產(chǎn)品外表面施氦氣,當被檢產(chǎn)品表面有漏孔時(shí),氦氣就會(huì )通過(guò)漏孔進(jìn)入被檢產(chǎn)品內部,再進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀,從而實(shí)現被檢產(chǎn)品泄漏量測量。按照施漏氣體方法的不同,又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。其中真空噴吹法采用噴槍的方式向被檢產(chǎn)品外表面噴吹氦氣,可以實(shí)現漏孔的定位;真空氦罩法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產(chǎn)品全部罩起來(lái),在罩內充滿(mǎn)一定濃度的氦氣,可以實(shí)現被檢產(chǎn)品總漏率的測量。
        真空法的優(yōu)點(diǎn)是檢測靈敏度高,可以定位,能實(shí)現大容器或復雜結構產(chǎn)品的檢漏。
        真空法的缺點(diǎn)是只能實(shí)現一個(gè)大氣壓差的漏率檢測,不能反映帶壓被檢產(chǎn)品的真實(shí)泄漏狀態(tài)。
        真空法的檢測標準主要有QJ3123-2000《氦質(zhì)譜真空檢漏方法》、GB/T15823-2009《氦泄漏檢驗》,主要應用于真空密封性能要求,但不帶壓工作的產(chǎn)品,如空間活動(dòng)部件、液氫槽車(chē)、環(huán)境模擬設備等。
        二、正壓法氦質(zhì)譜檢漏
        采用正壓法檢漏時(shí),需對被檢產(chǎn)品內部密封室充入高于一個(gè)大氣壓力的氦氣,當被檢產(chǎn)品表面有漏孔時(shí),氦氣就會(huì )通孔漏孔進(jìn)入被檢外表面的周?chē)髿猸h(huán)境中,再采用吸槍的方式檢測被檢產(chǎn)品周?chē)髿猸h(huán)境中的氦氣濃度增量,從而實(shí)現被檢產(chǎn)品泄漏測量。按照收集氦氣方式的不同,又可以將正壓法分為正壓吸槍法和正壓累積法。其中正壓吸槍法采用檢漏儀吸槍對被檢產(chǎn)品外表面進(jìn)行掃描探查,可以實(shí)現漏孔的定位;正壓累積法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產(chǎn)品全部罩起來(lái),采用檢漏儀吸槍測量一定時(shí)間段前后的氦罩內氦氣濃度變化量,實(shí)現被檢產(chǎn)品總漏率的測量。
        正壓法的優(yōu)點(diǎn)是不需要輔助的真空系統,可以定位,實(shí)現任何工作壓力下的檢測。
        正壓法的缺點(diǎn)是檢測靈敏度較低,檢測結果不確定度大,受測量環(huán)境條件影響大。
        正壓法的檢測標準主要有QJ3089-1999《氦質(zhì)譜正壓檢漏方法》、QJ2862-1996《壓力容器焊縫氦質(zhì)譜吸槍罩盒檢漏試驗方法》,主要應用于大容積高壓密閉容器產(chǎn)品的檢漏,如高壓氦氣瓶、艙門(mén)檢漏儀等。
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